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    全球工控內存領導品牌宇瞻科技為滿足工業(yè)計算機產業(yè)面對嚴苛環(huán)境的需求，持續(xù)為客戶研發(fā)具前瞻性的產品與技術，考慮日益受污染環(huán)境所影響的電子組件硫化問題，宇瞻科技開發(fā)全球第一款適用于含硫環(huán)境的抗硫化系列內存，日前已廣受肯定并陸續(xù)取得多國專利，全新抗硫化內存不僅能有效解決環(huán)境污染產生的硫化腐蝕現象，提升系統(tǒng)整體使用壽命，亦能滿足系統(tǒng)在惡劣環(huán)境下長時間穩(wěn)定運作的需求，確保產品可靠性與耐用度。

    內存模塊的隱形殺手-電阻硫化

   不同于一般標準型內存模塊相對穩(wěn)定的應用環(huán)境，由于工業(yè)計算機常需于高溫或高污染等環(huán)境下運作，因此工控內存產品需因應各種不同特殊的應用環(huán)境予以客制化設計，宇瞻科技藉由抗硫化技術強化內存模塊抵抗高污染環(huán)境下硫化腐蝕問題，可大幅提升工業(yè)計算機整體系統(tǒng)之穩(wěn)定性。高污染環(huán)境中濃度超標的懸浮微粒含有大量硫化氣體，易與電阻中作為導體的電極層的銀材料化合產生絕緣體硫化銀，導致電阻阻值增加，甚至形成開路而失效，尤以汽車電子、基地臺通訊等設備因常暴露于污染大氣中，出現硫化腐蝕現象影響更甚，宇瞻科技全新抗硫化內存模塊絕佳的抗硫化特色，有效解決電阻硫化所產生的產品可靠度與耐用度問題。

    抗硫化技術與寬溫支持，解決高溫加速電阻硫化問題

    工業(yè)計算機長期曝露于高溫及高濃度的硫化物氣體中，高溫會加速電阻硫化的形成，而硫化速度快會縮短產品使用期限。宇瞻科技開發(fā)全球第一款工規(guī)寬溫抗硫化內存模塊，結合抗硫化并支持寬溫，在高污染的含硫環(huán)境與嚴苛的極端氣候下仍能穩(wěn)定運作。宇瞻科技獨家專利抗硫化內存模塊特別適用于嵌入式工業(yè)計算機系統(tǒng)，滿足IPC產業(yè)在嚴苛環(huán)境下長時間穩(wěn)定運作的需求。

    革命性的創(chuàng)新技術應用，未來IPC產業(yè)主流規(guī)范

   電子產品硫化的問題目前逐漸受到重視，尤其對需要高可靠度與長時間運作的工業(yè)計算機產品更加重要，抗硫化的技術勢必成為未來IPC產業(yè)的主流規(guī)范，宇瞻科技根據抗硫化專利技術所制造的抗硫化內存除有寬溫支持，為了讓訊號傳輸更穩(wěn)定，專為抗硫化內存模塊設計遠超過一般業(yè)界采用 3µ標準的10倍 - 厚度高達30µ的金手指(Gold finger)，可靠度表現再升級，為高污染環(huán)境的工業(yè)控制系統(tǒng)、汽車電子、醫(yī)療、國防、網通、戶外基地臺，甚至采礦控制系統(tǒng)等設備，帶來強固的技術與多重防護機能，是在嚴峻環(huán)境下運行的工業(yè)用系統(tǒng)之最佳解決方案。

宇瞻科技DDR4抗硫化系列內存規(guī)格: